パナソニック株式会社
MID製造方法
分類:1回成形法
- レーザ直接除去法
射出成形品にレーザ光でパターンニングし回路を形成する。
特徴
- 高密着薄膜形成技術とレーザパターンニング技術の開発により、
微細3次元回路(ファインピッチ:ライン/スペース=50μm/50μm)
Chip on MID(ワイヤーボンディング、フリップチップ実装)を可能にしました。 - 微細・複雑な回路を3次元化することにより、小型化・省スペース・軽量化を実現します。
- プロセス:成形→メタライジング(薄膜形成)→レーザパターンニング→電気めっき
MIPTEC応用例
人体検出センサ | 超小型カメラ用基板 | 車載用光送受信モジュール |
連絡先(デバイス社 制御機器コールセンター)
- 所在地:〒571-8686 大阪府門真市大字門真1048
- TEL:0120-101-550(携帯電話もつながります)
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